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直流磁控濺射鍍膜設備

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產品類別:直流磁控濺射鍍膜設備
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發布時間:2019-06-22 15:02:43
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直流磁控濺射鍍膜設備 DC Sputtering Vacuum Coating Machine

用高能粒子轟擊固體表面,固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能后從固體表面飛濺出來的現象稱為濺射。濺射出來的原子具有一定的能量,它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面上形成薄膜,稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材擊出陰極靶材的原子或分子,飛向被鍍基片表面沉積成薄膜。

本公司設備均為非標定制,可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。

 

The phenomenon of bombarding a solid surface with high-energy particles to force the atoms or molecules of the Solid surface splash out from the solid surface is called sputtering. The sputtered atoms have a certain amount of energy, and they can be redeposited and agglomerated on the surface of the solid substrate to form a thin film, this is called a Sputter Coating. Usually, gas is generated by gas discharge to ionize its positive ions to bombard the cathode target to atomize the atoms or molecules of the cathode target under the action of an electric field, and fly to the surface of the substrate to be deposited into a thin film.

We provide OEM service, we can design various types of vacuum coating machine according to user requirements. Vacuum unit and Electronic control system can also be designed and configured according to user requirements.

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